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数显匀胶台

简要描述:数显匀胶台/匀胶台 型号:MHY-26376



本机是用于半导体、集成电路及激光息商标制过程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)胶的用设备。

  • 产品型号:MHY-26376
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-07-09
  • 访  问  量:511

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详细介绍

产地类别国产


数显匀胶台/匀胶台 型号:MHY-26376

 

本机是用于半导体、集成电路及激光息商标制过程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)胶的用设备。本机的作原理是利用速旋转时产生的离心力,将滴于基片上多余的光刻(感光)胶液甩去,在光刻(感光)胶表面张力和离心力的共同作用下,展成厚度均匀的胶膜。本机具有匀胶效率、使用方便等优点,匀胶速度和匀胶时间分别可调,电器电路具有较的稳定性,结构合理,旋转平稳,转速、时间采用数字显示,直观性强。本机可与光刻机配套使用。
 
数显匀胶台主要参数:
 
1、作电压: 380V/220V 
2、整机率: 1200W 
3、匀胶时间控制范围: 0.01-99.99秒;0.01-99.99分 

4、转速:
 0-8000Rpm 
5、装片直径(可根据用户要求定制): ф35-75mm 
6、匀胶位(可根据用户要求定制): 1-4位 
7、外形尺寸: 
长*宽* 850*810*1600mm
 
8、净重: 120kg 
 

本机是用于半导体、集成电路及激光息商标制过程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)胶的用设备。本机的作原理是利用速旋转时产生的离心力,将滴于基片上多余的光刻(感光)胶液甩去,在光刻(感光)胶表面张力和离心力的共同作用下,展成厚度均匀的胶膜。本机具有匀胶效率、使用方便等优点,匀胶速度和匀胶时间分别可调,电器电路具有较的稳定性,结构合理,旋转平稳,转速、时间采用数字显示,直观性强。本机可与光刻机配套使用。
 
主要参数:
 
1、作电压: 380V/220V 
2、整机率: 1200W 
3、匀胶时间控制范围: 0.01-99.99秒;0.01-99.99分 

4、转速:
 0-8000Rpm 
5、装片直径(可根据用户要求定制): ф35-75mm 
6、匀胶位(可根据用户要求定制): 1-4位 
7、外形尺寸: 
长*宽* 850*810*1600mm
 
8、净重: 120kg 
 

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